半导体材料开发（ArF光刻胶）

<关于ArF光刻胶>

・ArF是“氟化氩准分子激光器”的缩写，用于半导体制造的曝光技术。

・ArF光刻胶用于形成精细电路图案，是提升LSI（大规模集成电路）性能的重要半导体材料，而LSI广泛应用于智能手机、汽车系统等日常生活中不可或缺的产品。

★我们的产品在该领域占据了领先的市场份额。

最高学历：研究生学位、学士或以上学位

<申请要求/条件>

■必备条件：

・小分子有机合成的实践经验和知识（限工作年限3年以上）